Amorf Hidrojenlenmiş Karbon İnce Filmlerin Yasak Enerji Bant Aralıklarının Optiksel İncelenmesi

Hayrettin KIZILÇAOĞLU, Kadir GÖKŞEN, Yavuz KÖYSAL
1.012 547

Öz


Bu çalışmada plazma depozisyonu metodu ile üretilmiş amorf Hidrojenlenmiş Karbon (a-C:H) ince filmlerin yasak enerji bant aralıkları, optiksel geçirgenlik spektroskopisi aracılığı ile incelenmiştir. Analizler sonucu, ince film kalınlıklarının ve yasak enerji bant aralığı değerlerinin, film üretiminde kullanılan elektrik güç arttıkça, arttıkları tespit edilmiştir. Elde edilen sonuçlar teorik olarak modellenerek, iyi bilinen bazı renklerde verimli çalışma potansiyeline sahip cihazların üretiminde kullanılabilecek olası güç değerlerinin tahmininde kullanılmıştır.


Tam metin:

PDF ÖZET

Referanslar


Gillon X, Houssiau L., Plasma Sources Sci. Technol., 23, (2014) 045010.

Hiratsuka A, Karube I., Electroanalysis, 12, (2000) 695.

Shi F F., Surf. Coatings Technol., 82, (1996) 15.

Biederman H, Slavı́nská D., Surf. Coatings Technol., 125, (2000) 371.

Robertson J., Mater. Sci. Eng. R Reports, 37, (2002) 129.

Angus J, Koidl P, Domitz S., Carbon thin films Plasma Deposited Thin Films vol 17, Boca Raton FL: CRC Press (1986).

Tsai H., Mater. Sci. Forum, 52-53, (1990) 71.

Vora H., J. Appl. Phys., 52, (1981) 6151.

Kim H T, Sohn S H., Vacuum, 86, (2012) 2148.

Dearnaley G, Arps J H., Surf. Coatings Technol., 200 , (2005) 2518.

Jariwala B N, Ciobanu C V., Agarwal S, J. Appl. Phys., 106, . (2009) 073305.

Robertson J., Thin Solid Films, 383, (2001) 81.

Casiraghi C, Ferrari A C, Robertson J, et al, Diam. Relat. Mater., 13, (2004) 1480.

Casiraghi C, Ferrari A C, Ohr R, et al, Diam. Relat. Mater., 13, (2004) 1416.

Narayan R J., Mater. Sci. Eng. C., 25, (2005) 405.

Wang Y, Yin Z., Plasma Sci. Technol., 16, (2014) 255.

Xu J, Huang X, Li W, et al., Appl. Phys. Lett., 79, (2001) 141.

Geis M W, Efremow N N, Krohn K E, et al., Nature, 393, (1998) 431.

Pankove J., Optical Processes in Semiconductors, 2. Baskı, Englewood Cliffs, NJ: Prencite-Hall Yayıncılık (1971).